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用多靶磁控溅射沉积了ＮｉＴｉ记忆合金薄膜，并实现成分的调节，实验用Ｘ－ｒａｙ衍射法测定了ＮｉＴｉ薄膜（含５０．ｌａｔ℅Ｎｉ，接近理想成分５０．０ａｔ℅Ｎｉ），得到马氏体相结构的退火温度和时间。
溅射沉积ＮｉＴｉ形状记忆合金薄膜的晶化行为研究
【摘 要】
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用多靶磁控溅射沉积了ＮｉＴｉ记忆合金薄膜，并实现成分的调节，实验用Ｘ－ｒａｙ衍射法测定了ＮｉＴｉ薄膜（含５０．ｌａｔ℅Ｎｉ，接近理想成分５０．０ａｔ℅Ｎｉ），得到马氏体相结构的退火温度和时间。
【机 构】
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科学院上海冶金研究所
【出 处】
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第四届全国敏感元件与传感器学术会议
【发表日期】
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1995年期
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