a-CNxH薄膜的摩擦学性能研究

来源 :第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zydwnj
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氮化碳薄膜(Carbon nitride films)是以理论预言为基础、自然界尚未发现的人工合成材料之一.由于其具有很多优异的性能而备受材料学家的青睐.非晶氮化碳(a-CNxH)薄膜是其中的一种.1990年.Muller首次报道了a-CNxH薄膜具有高的抗磨性能和极低的摩擦系数.随后十几年,人们开始对其摩擦学性能进行研究.然而,由于a-CNxH薄膜对制备工艺和沉积条件的依赖性,以及摩擦试验中所用条件的不同,所得结论不尽相同.本文用自行研制的DC-RF-PECVD制备了a-CNxH薄膜,并探讨了不同对偶材料对薄膜摩擦性能的影响. 所得a-CNxH薄膜呈金黄色,厚度约为100 nm.XPS,FTIR和Raman分析表明,薄膜中的C和N原子以C-N单键、C=N双键和C≡N三键的形式结合;此外还有C-C,C=C,C-H以及N-H键,这些键都是以共价键的形式存在,是典型的非晶含氢氮化碳薄膜。
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