氮化碳薄膜相关论文
氮化碳薄膜(Carbon nitride films)是以理论预言为基础、自然界尚未发现的人工合成材料之一.由于其具有很多优异的性能而备受材料......
本文介绍了一种新型薄膜太阳电池Al/CN肖特基氮化碳薄膜太阳电池,采用离子束溅射,石墨靶,沉积氮化碳薄膜.用ITO为衬底的ITO/CN/Al......
graphitic 碳氮化物(g-C3N4 ) 被发现在紫外照耀下面是为 decabromodiphenyl 醚(BDE209 ) 的减少的降级的有效光催化剂(> 360 nm )......
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积 (CVD)方法直接在Si(10 0 )衬底上制备了多晶C3N4 薄膜。X射线衍射 (XRD)测试表明薄膜......
通过光催化技术将CO_2和水直接转化为太阳能燃料,可一步实现太阳能的转换与存储和CO_2资源化利用。这一技术在解决能源和环境问题......
采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同直流负偏压下烧蚀石墨靶材,在单晶Si片上沉积CNx薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱和扫描......
本文采用离子束溅射工艺沉积得到光伏新材料——非晶氮化碳薄膜,并用变角光谱椭偏仪测试其光学性质.......
应用磁控溅射系统沉积碳氮薄膜材料。发现实验参数中衬底温度对薄膜的沉积率,含氮原子百分比,结构,性质有显著影响。衬底温度350℃时,碳氮......
该文采用在高纯石墨基片和碳膜中注入大剂量氮离子和退火处理的方法,制备了CN〈,X〉薄膜样品。对所制备的样品用俄歇电子能谱(AES),X光光电子谱......
采用低压等离子体增强化学气相沉积法(LP-PECVD)制备氮化碳薄膜;低能离子注入机对制备的薄膜进行N注入掺杂.X射线光电子能谱(XPS)......
用中空阴极磁控溅射的方法,研究人员制备了氮化碳薄膜。X射线光电子能谱红外光谱研究表明,膜中含有两种相的氮化碳。第一种相对应的......
氮化铬(CrN_x)薄膜和非晶态氮化碳(a-CN_x)薄膜具有良好的机械性能,被广泛应用作切削刀具、生物医学工程以及微机电系统(MEMS)等领......
太阳能光伏发电以其能量无限和无环境污染的独特优点,成为目前解决能源和环境问题最有希望的可再生能源。我们通过大量文献资料的查......
氮化碳材料以其优异的特性受到大量研究者的重视,但N原子的百分含量及价键结构等的瓶颈限制了它的广泛应用。偏压辅助技术在促进sp......
该文采用直流磁控溅射、射频(rf)溅射和射频磁控溅射的方法制备了氮化碳(CNx)薄膜,并研究了氮化碳薄膜的微观结构和光学性质.用rf......
自旋电子学由于其丰富的物理内涵和广泛的应用前景受到学术界和工业界的高度重视,已成为近年来凝聚态物理研究的热点领域。本文利用......
该论文主要介绍一种薄膜制备的新方法--电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积(electron cyclotron resonance plasma assisted pu......
本文分别采用直流磁控溅射技术和微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)技术在镀钛氧化铝陶瓷衬底上制备了氮化碳薄膜,并研究了样品......
本文主要论述了采用弧光放电(Arc Discharge)和直流空心阴极放电(DC Hollow Cathode Discharge)两种方法来制备纳米陶瓷氮化碳薄膜......
本文以脉冲激光烧蚀(PulsedLaserAblation,PLA)等离子体为主要研究对象,通过对PLA等离子体光谱的测量分析,考察PLA等离子体的时空演变......
采用离子束溅射反应沉积技术 ,以高纯 N2 为工作气体 ,利用在不同气压下产生的离子束轰击石墨靶 ,在石英基片上溅射出的碳原子与氮......
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明薄膜同时含......
在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜. 薄膜的电子结构和元素成分用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和光电子能谱(XPS)进行分析,......
使用立式连续直线镀膜生产线,采用真空磁控溅射技术在玻璃表面设计并镀制了Nb2O3/SiO2/Nb205/SiO2/CNx多层纳米硬质增透薄膜,并研究其透......
本文概述了新型超硬材料氮化碳的提出,发现及物化性质,目前国内外研究最新进展和应用前景。......
采用直流磁控溅射持方法,以镀Ti瓷片为衬底,改变N2和Ar的流量比,在衬底温度为400℃条件下制备了氮化碳薄膜,并对其场致发射特性进行了......
氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景.目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离......
使用N离子(能量分别为10 keV,60 keV)注入金刚石膜方法合成CNx膜,用Raman 光谱和XPS光谱研究注入前后金刚石膜的成键结构.结果表明......
制备了一种非晶氮化碳薄膜,并对其经行了扫描电镜、膜厚、压痕、划痕、硬度及X射线光电子能谱分析(XPS)测试。测试结果表明该薄膜结......
用XPS研究射频-直流等离子体增强化学气相沉积获得的氮化碳薄膜的化学结构。C1s和N1s芯能级电子谱分析表明:在CN膜中含有N-sp^3和N-sp62两类化学结构,在高含N膜......
利用光学发射谱技术对直流辉光放电等离子体增强的化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的等离子体进行了原位诊断,结果表明主要的辐射有N2......
首次采用二氰二胺的N,N二甲基甲酰胺(DMF)溶液做沉积液,用Si(100)和ITO导电玻璃做基底,在阴极上电化学沉积了CNx薄膜.X射线衍射(XR......
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜。X射线衍射(XRD)测试表明薄膜同时含有α-C3N4和β-C3N4晶相以未知结构......
采用射频磁控溅射方法制备了非晶CNx薄膜。利用纳米硬度计研究了薄膜沉积过程中基体负偏压对薄膜硬度和弹性的影响。利用X光电子能谱分......
在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。系统地研究了氮化碳薄膜的电子结构和光学随温度的变化规律。用富里叶变化红......
利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜. 用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等......
利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)单晶衬底上沉积了氮化碳薄膜.薄膜的表面形貌表明所得的薄膜非常的均匀光滑.用X光电子能谱、......
氮化碳(CNx)薄膜具有优异的力学性能和摩擦学性能,很适合用作耐磨保护涂层及固体润滑剂.采用磁控溅射法在高速钢(HSS)基片上制备了......
本文用扫描电镜、经外吸收光谱、X射线光电子能谱和X射线衍射技术对高频溅射沉积法制备的氮化碳膜的生长过程进行了研究。改变溅射条......
采用磁控溅射法在生物医用NiTi合金基体表面制备了Ti/CNx(x≈0.26)梯度薄膜,并制备了Ti/类金刚石(DLC)以及Ti/TiN薄膜进行对比研究.利......
本文采取电化学沉积方法,以尿素的甲醇溶液为反应原液,并加入少量醋酸,于单晶硅(100)获得氮化碳材料的枝状多晶体,其晶粒线径可达50μm。......
氮化碳(graphitic carbon nitride,g-CN)作为一种非金属半导体材料已被广泛应用于多种能源相关领域研究中。目前由于制备高质量g-C......
测量了采用RF-CVD方法制备的氮化碳薄膜的FTIR曲线,膜层中的C-N键、石墨相、C=N键和C≡N键的红外吸收峰波数分别为1250cm^-1,1576cm^-1,1687cm^-1和2054cm^-1。采用技术措施避免石墨相析出的氮......
研究了生工在硅片,合金钢片上的氮化碳薄膜的X射线衍射谱(XRD),实验结果表明在硅片上先生长Si3N4过渡层和对样品进行热处理,有利于β-C3N4晶体的生成,不......