【摘 要】
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化学气相沉积法(CVD法)生长多晶金刚石膜,在二十世纪八十年代中期问世,单晶CVD金刚石在九十年代末开始有人研发,至2000年初成功,2012年初由新加坡的Ⅱa公司将微波等离子体化
【机 构】
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台钻科技(郑州)有限公司,郑州450016
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化学气相沉积法(CVD法)生长多晶金刚石膜,在二十世纪八十年代中期问世,单晶CVD金刚石在九十年代末开始有人研发,至2000年初成功,2012年初由新加坡的Ⅱa公司将微波等离子体化学气相沉积法生长出的无色高品质,从小钻到克拉级的首饰钻石商品化,其售价较同级天然钻石低1/3至1/2,对天然钻石市场引起了震撼.实际上,单晶首饰钻石只是CVD功能的一小部分,大面积6-8英寸直径的多晶金刚石膜在声、化、光、热、电方面,有更多、更重要的用途.
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