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电子束曝光具有很高的精度,但效率也低,因而扫描精度和扫描效率的矛盾成为电子束光刻的主要矛盾,解决这个问题的关键技术就是解决电子束光刻系统和目前生产效率较高的光学光刻系统的匹配和混合光刻技术问题,办法是大部分工艺由投影光刻机曝光或接触式曝光,超精细图形和套刻精度要求特别高的图形层采用JBX-5000LX电子束直写曝光.最终达到了优于0.1μm的套刻精度.