【摘 要】
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相较其他过渡金属而言，铂片(Pt)由于其可重复利用的优点，成为化学气相沉积(CVD)生长高质量、均匀厚度的六方氮化硼(h-BN)薄膜的理想衬底之一1-3. Gao 等人利用常压化学气相沉积，以氨硼烷为前驱体，在Pt 表面分别制备出了晶畴尺寸约为2μm 的单层和双层h-BN 晶粒，提出了Pt 表面h-BN 的生长并非自限制的，且衬底对其表面的h-BN 晶粒的形状、晶向没有明显影响3.
【机 构】
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厦门大学物理学系,厦门 361005 厦门大学物理学系,厦门 361005;中国人民大学物理系,北
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相较其他过渡金属而言，铂片(Pt)由于其可重复利用的优点，成为化学气相沉积(CVD)生长高质量、均匀厚度的六方氮化硼(h-BN)薄膜的理想衬底之一1-3. Gao 等人利用常压化学气相沉积，以氨硼烷为前驱体，在Pt 表面分别制备出了晶畴尺寸约为2μm 的单层和双层h-BN 晶粒，提出了Pt 表面h-BN 的生长并非自限制的，且衬底对其表面的h-BN 晶粒的形状、晶向没有明显影响3.
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