【摘 要】
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采用多弧离子镀和磁控溅射相结合的复合离子镀技术在基体表面制备(Ti,Cu)N薄膜样品,利用扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射仪(XRD),台阶仪,维氏硬度计,摩擦磨损仪对薄膜微观结构和力学性能进行了表征,重点研究了脉冲偏压对薄膜结构和性能的影响规律.结果表明,脉冲偏压对复合离子镀(Ti,Cu)N薄膜表面形貌,择优取向,沉积速率和硬度均有一定影响.在脉冲偏压为-400v时,薄膜的沉积速率最大,达到
【机 构】
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天津师范大学物理与材料科学学院 天津300387
【出 处】
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第七届全国青年表面工程学术会议暨重庆市第二届汽车摩托车摩擦学材料先进技术与应用推进会
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采用多弧离子镀和磁控溅射相结合的复合离子镀技术在基体表面制备(Ti,Cu)N薄膜样品,利用扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射仪(XRD),台阶仪,维氏硬度计,摩擦磨损仪对薄膜微观结构和力学性能进行了表征,重点研究了脉冲偏压对薄膜结构和性能的影响规律.结果表明,脉冲偏压对复合离子镀(Ti,Cu)N薄膜表面形貌,择优取向,沉积速率和硬度均有一定影响.在脉冲偏压为-400v时,薄膜的沉积速率最大,达到25.04 nm/min,而在脉冲偏压为-300v时,薄膜的硬度达到最大,为1571.4Hv.本文对实验结果进行了讨论和分析.
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