辉光放电质谱定量分析硅粉中的痕量杂质

来源 :第三届全国质谱分析学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wind1120

【摘要】

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　　辉光放电质谱(Glow Discharge Mass Spectrometry,GDMS)是对金属和半导体材料中痕量以及超痕量元素分析的最有效手段之一[1].GDMS 采用直接固体进样,因此前处理简单,另外

【作者】

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张见营周涛唐一川崔彦杰

【机构】

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化学计量与分析科学研究所,中国计量科学研究院,北京,100013

【出处】

：

第三届全国质谱分析学术报告会

【发表日期】

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2017年期

【关键词】

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辉光放电质谱定量分析硅粉 Mass Spectrometry 超痕量元素分析直接固体进样半导体材料灵敏度高

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　　辉光放电质谱(Glow Discharge Mass Spectrometry,GDMS)是对金属和半导体材料中痕量以及超痕量元素分析的最有效手段之一[1].GDMS 采用直接固体进样,因此前处理简单,另外还有基体效应低、灵敏度高、检出限低(pg/g)、分辨率高(10000)、动态范围宽(12 个数量级)等优势.

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