用气相沉积方法在低气压下制备BN的高压相:E-BN、c-BN、w-BN

来源 :第十届全国高压学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:q2347386
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用射频磁控溅射的方法得到了低应力立方氮化硼薄膜。红外光谱结果表明薄膜具有很好的附着力,且含有少量的E-BN和w-BN。电子衍射谱表明薄膜表层是纯的立方相。同时利用此方法得到了E-BN的薄膜。本工作提出了薄膜生长过程可能经历了一个从E-BN到c-BN的相转变过程。
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