【摘 要】
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本文采用射频磁控溅射法制备了复合有C、N元素的纳米MoS2系列薄膜(MSCN),并讨论了C、N元素的共同引入对MoS2薄膜的化学成分、微观结构、力学和摩擦学性能的影响.结果 表明,当Ar/N2比为20,石墨靶溅射功率从100 W增大到400 W时,复合薄膜的XPS结果显示有C-N键的存在,TEM结果表明在石墨溅射功率为350 W时,薄膜呈现出自形成纳米多层结构特征.同时,随石墨靶溅射功率的增加,复
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州 730000
【出 处】
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第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议
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本文采用射频磁控溅射法制备了复合有C、N元素的纳米MoS2系列薄膜(MSCN),并讨论了C、N元素的共同引入对MoS2薄膜的化学成分、微观结构、力学和摩擦学性能的影响.结果 表明,当Ar/N2比为20,石墨靶溅射功率从100 W增大到400 W时,复合薄膜的XPS结果显示有C-N键的存在,TEM结果表明在石墨溅射功率为350 W时,薄膜呈现出自形成纳米多层结构特征.同时,随石墨靶溅射功率的增加,复合薄膜的硬度显著提高,其中,MSCN(350 W)薄膜的硬度高达9.76 GPa.摩擦试验表明,大气环境中,MSCN纳米复合薄膜的耐磨寿命随石墨靶溅射功率的增加而变长.
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