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关于NO氮化热生长SiO<,2>膜制备超薄栅介质膜(~5nm)的研究
【机 构】
:
大学微电子所(北京)
【出 处】
:
第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
:
1997年期
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