耐高压微流控芯片制备方法及其在纳米颗粒高通量合成方面的应用

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wl281472
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  本发明介绍了一种PDMS微流控芯片的接口结构制作方法及其应用.该方法制备过程简单,无需特制工具、仪器,成功率达到90%以上,通过该方法制备的接口可以承受4.5Mpa的压力.我们利用该方法制备的芯片进行了精细可控、高通量PLGA纳米颗粒合成,成功合成了粒径均一,大小从55纳米至135纳米可调的PLGA颗粒.在300×40微米的管道中,流速可以达到410毫升每小时,因而具有很好的混合效果.本发明的接口结构具有封接牢固、耐受压力强的特点,能够满足微流控芯片高通量合成、分离、细胞操控、等需要较高流速的实验需求.
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