循环氩离子轰击对等离子体增强休学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响

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该研究设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备,研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理。结果表明:循环氩离子轰击强化了沉积中的反应,提高了TiN膜的致密性,细化了TiN晶粒,养活了膜内缺陷,降低了膜层中的残余氯含量,从而提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能。
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