TiN膜相关论文
该研究设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜......
本文采用中频非平衡磁控溅射技术在奥氏体不锈钢316L基底上沉积TiN薄膜，利用X射线衍射仪、轮廓仪、扫描电子显微镜和分光光度计分别......
研究了直流ＰＣＶＤ ＴｉＮ膜的断口结构和机械性能。用扫描电镜观察了４００℃～７００℃ 下沉积的 ＴｉＮ膜．总结了在本条件下所得 ＰＣＶＤ－ＴｉＮ膜的温度－结构关系，与 ＰＶＤ 法相比，其主要......
用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为:Ti—N......
选用 Ti6Al4V 合金作为基体材料,并对其进行 N+注入以及非平衡磁控溅射 TiN 膜制得两种改性试样,借助 Phillips X’Pert型 X 射线......
用反应直流溅射方法，在抛光后的W18Cr4V高速钢基体的表面上制备TiN膜层。利用SEM对薄膜表面形貌进行了观测，通过色度计研究了氮气流......
该研究设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜......
该文通过探讨改变基体表面几何形貌对膜的形核的影响,提出了基体表面形貌的理论几何模型,基于基体表面能,建立稳定原子簇团生长的......
薄膜材料的应用愈来愈广泛,它的力学性能对膜基系统的服役行为影响很大,已成为一大研究热点.该文针对屈服强度、残余应力、杨氏模......
将硬质膜层沉积在受保护的软基材上，在很多情况下却难以有效发挥其减摩抗磨作用，特别是在外力作用下膜层剥落导致膜/基体系早期失效......
该论文介绍了节能镀膜玻璃特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类及常用的制备方法,并总结出以钛元素......
文章介绍了多束动态混合注入(MBMI)设备及技术特点,利用MBMI技术制备超厚(35μm)高结合力(5600f)TiN膜,并对TiN膜进行了XRD、SEM、......
简要叙述了小孔流量法测量材料出气率实验的原理和实验装置,给出了不锈钢溅射镀TiN膜在不同情况下的热出气率,并对影响不锈钢溅射......
TiN膜具有优异的物理和力学性能，它是最成功的高级表面镀层之一。基于它的这种重要特性，把它作为硬质镀层材料应用于切削工具，提高工......
阐明了金刚石覆盖的最佳途径———真空离子覆镀TiN膜。同时通过对从清洗、轰击、到物料的振动与翻滚等全部工艺过程的论述 ,说明......
用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术(PIII),在Cr12MoV钢基体上制备了TiN膜,经XPS分析发现,膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3。对......
期刊
利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜 .利用XRD ,XPS ,AES ,SEM等手段分析了薄......
期刊
采用Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ高速钢进行离子渗氮－ＰＥＣＶＤ ＴｉＮ复合处理，运用透射电子显微镜、Ｘ射线衍射仪和光学显微镜研究试样的表层组织结构。采用连续压入法研究ＴｉＮ膜与......
本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积的技术(PIII-IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进......
为了研究在铝合金上硬质膜的性能,促进硬质TiN膜在铝合金构件上的应用,利用电弧离子镀在7075铝合金上沉积TiN膜层,并通过改变脉冲......
电弧离子镀膜层中“大颗粒”的存在，降低了膜层质量，限制了其进一步应用。采用俄罗斯UVN0．5D2I离子柬辅助沉积电弧离子镀设备，对高速钢......
为了提高软基体镁合金表面TiN膜的性能，对AZ31镁合金多弧离子预镀Ti后再镀TiN，并与直接镀TiN的膜层进行对比，研究了预镀Ti膜对TiN膜层......
本文叙述了添加稀土元素Y改善了离子镀TiN膜与基材的结合力,并且通过电子探针(EPMA)、透射电镜(TEM)和X射线衍射相分析等手段,对稀......
用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击交替进行的办法合成了TiN薄膜。用RBS,AES,TEM,XPS,和X射线衍射研究TiN薄膜的组分和结构表......
用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为:Ti—N......
分别采用磁控溅射（MS）和多弧离子镀（MAIP）技术在TC4钛合金表面制备了TiN膜层，采用划痕仪、显微硬度计和多冲试验机评价了两种方法制备膜......
本文在对法国产SIRUS—400型采煤机主泵配油盘的磨损失效分析的基础上,合理选择配油盘基材和表面强化工艺,用实际的配油盘进行了有......
通过分析等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的特点,对残余氯的存在机制、等离子体场中离子轰击对氯在TiN膜内分布的影响作了进一步......
采用低能MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空弧沉积的TiN硬质膜进行了Si离子注入。采用场发射扫描电子显微镜、纳米硬度测试等方法......
介绍了中国散裂中子源（CSNS）快循环同步加速器（RCS）中四极陶瓷真空盒内表面镀TiN膜技术与成膜系统装置。采用磁控溅射法,通过在绝缘体......
本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置。采用真空管道自体真空镀膜方法解决细长管道内表面镀膜问题，......
采用非平衡磁控溅射与阳极离子束技术制备Cr/α-C：H膜系,同时采用多弧离子镀技术分别制备Cr/CrNx与Ti/TiNx膜系,膜层厚度均为2μm。......
在研究与应用气相沉积方法的过程中,如何准确地评价膜与基体的结合强度一直是有待解决的问题。本文提出了用四点弯曲定性分析膜基......
通过切削对比试验，考察了分别用离子束增强沉积法和离子镀法镀覆ＴｉＮ膜的质合金发具和无镀层的同种硬质金刀具的抗切削损伤性能，结果表明......
用Ｘ射线射仪测定了在５２１００钢基体上离子束增强沉积ＴｉＮ膜，等离子体化学气相沉积ＴｉＮ膜和离子镀ＴｉＮ膜的应力状态，分析了不同方法制取ＴｉＮ薄膜的应力形成的影......
用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术(PⅢ)，在Cr12MoV钢基体上制备了TiN膜，经XPS分析发现，膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3。对有与......
采用Ti、N等离子体基离子注入和先在基体表面沉积纯钛层然后离子注氮混合两种方法在铝合金基体上制备了TiN膜.利用XPS分析了两种方......
通过自动极图衍射测量与极图分析研究空心阴极离子镀TiN膜晶粒取向,结果表明,TiN膜存在(111)织构,(111)晶面平行于沉积表面,研究了......
探讨了ＰＣＶＤ法沉积ＴｉＮ膜器壁副产物的成分及形成机制，并提出了解决办法。同时对脉冲、直流ＰＣＶＤ沉积ＴｉＮ膜中的氯含量、膜的生长、晶粒大小及膜结构进......
采用离子注入、沉积、动态混合注入沉积工艺,在硅基体上制备TiN膜层.用纳米划痕法检测成膜质量,用扫描电镜观察划痕形貌.对比分析......
期刊
阐明了金刚石覆盖的最佳途径－真空离子覆镀TiN膜。同时通过对从清洗、轰击、到物料的振动与翻滚等全部工艺过程的论述，说明了金刚石......
采用透射电子显微镜及微衍射技术,研究了稀土钇改性的离子镀Ti(Y)N膜与A3钢基材之间的界面精细结构。结果表明:Ti(Y)N/A3系统界面......
利用等离子体辅助化学气相沉积法(PACVD)在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚的TiN膜．借助X射线应力分析技术和微拉伸设备，测量该附着膜纵向(......
采用直流磁控溅射在AZ31镁合金表面分别沉积了Al膜和TiN膜。对这两种膜的表面特性进行了研究和比较。扫描电子显微镜（SEM）观察到沉积......
