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使用扫描电镜观察了红曲霉在大米培养基中发酵的生长过程,结果表明,发酵初期菌体首先在大米表面形成菌丝层,到第八天时菌丝层厚度达到二三百微米便 不再明显增厚,并有许多营养菌丝深入米粒内部进一步利用度物。当米内部颗料排列疏松时,菌丝体主要沿颗粒间隙生长。此方式生长迅速,底物利用率高;当颗粒排列紧密时,菌体可直接穿透颗粒生长,但生长缓慢。红曲霉在米的表面和内部的菌丝生长有较大的差异,可能存在着功能的分化。