用于水处理的常压毛细管针放电等离子体反应器设计及特性研究

来源 :第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sunday_rectina
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引言在新型污水处理技术中,等离子体污水处理技术兼具湿式氧化技术、光催化氧化法、超临界水氧化法、电化学催化降解法等技术的优势,以其降解效果好、处理效率高、与环境兼容性强等显著特点受到广泛关注,在污水处理领域展示出了良好的应用前景.本文以纺织印染工业中使用较为广泛的蒽醌型染料中间体溴氨酸为对象,开展了用于有机污染物降解的常压毛细管针放电等离子体水处理反应装置设计与实验研究工作.
其他文献
我们在大气压条件下,通过气体质量流量计在内径1OOμm、500μ m、700μ m、1500μ m、2000μ m的空心光纤中添加高纯He(流量是60sccm)产生微等离子体,在空心光纤的两端连接频率9kHz,电压峰峰值O-20kV的高压电极和地电极(φ30μ m×50mm),电极之间的距离是10厘米.
会议
在这项研究中,我们设计了一种便携式等离子体发生装置,这种装置在大气压下能够产生稳定的、刷形的空气放电.这种室温空气等离子体羽流由有序的和稳定的微等离子体射流组成,这种射流是在大气压下在中空光纤管末端附近形成的.在此我们利用所形成的刷形空气等离子体羽流对PET聚合物表面进行了处理,并在处理前后的PET表面进行了生物血液相容性试验,通过实验结果分析,我们可以确定这种等离子体羽流可以有效地防止热敏性聚合
会议
近年来,紫外光源技术已成为微电子、医药、化工、卫生和环保等领域中基础性的和关键性的技术。所有这些应用均要求光源有较窄的辐射光谱和一定的辐射光强度,采用激光光源的不足之处是束斑尺寸小并且价格昂贵,而工业上大量需求的是非相干、大面积、具有一定强度和费用低廉的紫外(UV)、真空紫外(VUV)光源。
会议
Nanostructured TiO2 has attract much attention for its wide application scopes of inanticancer or gene therapy modalities, bio-compatible fluorescent labels,photocatalysts, photo/electrochromic device
会议
The effect of Cl2 inductively coupled plasma (ICP) treatment on the time dependence of work function and chemical composition of indium-tin-oxide (ITO) surface were investigated.Kelvin probe (KP) meas
利用等离子体浸没离子注入技术(PIII)对AZO薄膜进行表面改性,然后用X射线光电子衍射仪(XPS)和开尔文探针(KP-Probe)对结果进行了表征.结果发现,AZO薄膜表面的氧元素含量经过处理后显著提高,而碳含量明显减少;AZO薄膜的表面功函数最高可提高约1.0eV,并且在空气中放置96小时之后还保有0.4eV的增量;XPS对Ols结合能偏移量的分析也和功函数的增量有很好的一致性.
引言微等离子体因其在纳米材料制备、生物医药、环境科学等方面的应用而备受关注.直流微放电能够产生稳定的非平衡等离子体.测量等离子体气体温度有助于理解和控制各种基于等离子体技术的材料处理和加工过程,明晰等离子体中的能量消耗过程和非平衡到平衡态的转变物理机制.
会议
Nanoparticles (NPs) such as Ag NPs, Au NPs, and bimetallic Au/Ag nanoalloy are of great interest for a range of applications in fields ranging from plasmonics to catalysis.In this work, plasma-assiste
会议
感应耦合等离子体源(Inductively Coupled Plasmas,ICP)可在低气压(1-50 mTorr)下产生高密度的等离子体(>1011 cm-3),己被广泛应用于芯片加工工艺当中.此外,在磁约束核聚变中,ICP源也被选择作为中性束注入系统的离子源.我们所模拟的ICP源的放电腔室是一个柱状结构.圆柱内充满氢气.圆柱的上底面和下底面是由金属构成,而侧壁是由石英构成.
会议
利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积法(ICP-CVD)直接在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。主要研究了Ar和H2的稀释效应对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对在不同稀释气体比例条件下制备的多晶硅薄膜进行结构、形貌及沉积速率的分析,并讨论了多晶硅薄膜沉积的最适宜条件。
会议