【摘 要】
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纳米颗粒基板表面修饰是一种很好的制备高钉扎性能超导薄膜的方法,为了获得良好的工程表面,控制纳米颗粒的尺寸、密度、分布等是关键.本文采用MOD法在LaA1O3单晶基板上制备了Ce0.2Zr0.8O2纳米颗粒.除了调节工艺参数的方法外,我们在制备纳米颗粒的同时,通过改变沉积表面的晶面控制表面划痕或凸起,为沉积的纳米颗粒提供形核中心,从而实现了纳米颗粒密度的控制.同时表面划痕或凸起的间距能很好地控制颗粒
【机 构】
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国家教育部功能材料重点实验室;北京工业大学材料学院 北京 100022
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纳米颗粒基板表面修饰是一种很好的制备高钉扎性能超导薄膜的方法,为了获得良好的工程表面,控制纳米颗粒的尺寸、密度、分布等是关键.本文采用MOD法在LaA1O3单晶基板上制备了Ce0.2Zr0.8O2纳米颗粒.除了调节工艺参数的方法外,我们在制备纳米颗粒的同时,通过改变沉积表面的晶面控制表面划痕或凸起,为沉积的纳米颗粒提供形核中心,从而实现了纳米颗粒密度的控制.同时表面划痕或凸起的间距能很好地控制颗粒的团聚和尺寸.
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高质量超导Nb膜是制备量子器件及超导加速腔的关键材料.Nb膜的内部应力大小是衡量Nb膜质量的重要因素之一.为探究Nb膜生长过程中内部应力的产生原因,本文采用直流磁控溅射法在石英基片上沉积Nb膜,并用X射线衍射仪及原子力显微镜对不同溅射参数(溅射气压、基片温度、沉积速率、薄膜厚度)下制备的Nb膜的相结构、内部应力、表面形貌进行测试分析.
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