应力作用下Al-Mg合金涂层缺陷附近应力的分子动力学研究

来源 :第十一届国际真空冶金与表面工程学术会议、2013年真空工程学术会议暨2013年真空咨询学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jhiphop
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  基于分子动力学,针对带有缺陷的Al-Mg合金涂层在剪应力和拉应力作用下,其缺陷附近的应力应变进行研究。建立Al-Mg合金涂层模型,采用镶嵌原子势函数和等温等压系综,分析系统动能变化。去除其中的部分原子得到缺陷模型,分别施加Z轴方向剪应变和X轴方向的拉应变,分析涂层中缺陷附近的应力变化,得到系统的应力-应变曲线和动能-步长曲线图。对比讨论带缺陷涂层和不带缺陷涂层对相同应变量的应力响应。结果表明:带缺陷的涂层系统能量变化更明显。对金属涂层中缺陷对其能量耗散的研究具有重要的理论意义。
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