以钠基蒙脱土为主要组分，添加少量特定高分子作为粘结剂，通过流延成膜和常压干燥制备粘土/高分子混合薄膜。该混合膜经过高温烧结后，最终得到完全由粘土构成、厚度为微米级的薄膜。借助广角X-衍射测试，考察了高分子用量和烧结温度对薄膜微观结构的影响。XRD测试结果表明：①在0-25％范围内增加高分子用量，位于2θ=70处的衍射峰向小角度方向移动，（001）晶面的层间距有所增大，这是阴离子型的高分子与蒙脱土中的Na+通过静电相互作用进入到粘土晶片层中进行扩层所致；②烧结粘土膜XRD衍射图谱中位于2θ=70处（001）晶面的衍射峰在烧结后消失，表明蒙脱土原料中，NaO.3Al2(Si, Al)4O10(OH)2.2H2O的（001）晶面经高温烧结后遭到破坏；③比较烧结温度分别为800℃和950℃两种情况发现：2θ≈290处归属于（004）晶面的衍射峰不仅峰型变得尖锐，而且衍射强度相对增强，这表明该晶面的晶型更为完整，晶片层排列更为有序。