【摘 要】
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目前在医学、生物以及工业测试中得到广泛应用的数字X射线成像技术主要通过闪烁材料将X射线转变成可见光并通过电荷耦合器件(CCD)进行探测，然而传统上常用的闪烁晶体随着厚度的增加导致可见光的各向同性展宽并进而降低了成像的空间分辨率。构建薄膜闪烁光纤阵列是目前提高空间分辨的有效方法。本工作以广泛应用的CsI(Tl)晶体为研究对象，通过射频溅射以玻璃光纤为模板，制备具有柱状微结构的闪烁薄膜材料，对其发光及
【机 构】
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中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室,北京100049 中国科学院高能物理研究所核分析技术
【出 处】
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第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会
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目前在医学、生物以及工业测试中得到广泛应用的数字X射线成像技术主要通过闪烁材料将X射线转变成可见光并通过电荷耦合器件(CCD)进行探测，然而传统上常用的闪烁晶体随着厚度的增加导致可见光的各向同性展宽并进而降低了成像的空间分辨率。构建薄膜闪烁光纤阵列是目前提高空间分辨的有效方法。本工作以广泛应用的CsI(Tl)晶体为研究对象，通过射频溅射以玻璃光纤为模板，制备具有柱状微结构的闪烁薄膜材料，对其发光及成像特性进行表征。
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要实现高集成度的硅基光波导放大器，掺铒硅基材料无疑是最合适的选择.然而常规掺杂路线所能实现的铒掺杂浓度不利于实现小尺寸的硅基光电集成所需掺铒光波导放大器(EDWA).在本文中我们致力于高铒掺杂浓度的铒硅酸盐晶态薄膜的制备、结构表征和物性研究.利用高纯铒的无机盐制备的螯合物，采用溶胶-凝胶方法并结合旋涂工艺制备出铒离子浓度可调(从0 at％到25 at％)的高质量和光滑表面形貌的铒硅酸盐晶态薄膜(E
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半导体材料纳米结构在制作多种光电器件如发光二极管和激光器等方面有广泛的应用前景.但是纳米材料由于表面-体积比很高,光学性质会受到表面态的强烈影响,会导发光效率低等问题.对纳米材料进行表面处理、发光机理研究十分必要.可以采用复合结构对纳米材料进行表面修饰,此方法对材料发光性质有着显著的影响.在本文中,采用水热法制备了ZnO纳米棒,并在ZnO纳米棒上继续使用水热法二次生长制备了CdS纳米颗粒对其进行表
Schottky junction solar cells were fabricated on single CdS nanowires (NW)/nanobelts (NBs).Au (100 nm) and In/Au (10/100 nm) were used for the Schottky and ohmic contacts to CdS NW/NB.The solar cell e
为了提高器件ITO/ZnO/ZnO纳米棒/MEH-PPV/Al的电致发光,在本论文中我们研究了以MoO3和ZnS为缓冲层的器件ITO/缓冲层/ZnO/ZnO纳米棒/MEH-PPV/Al的发光特性.在器件ITO/ZnO/ZnO纳米棒/MEH-PPV/Al中,在直流电场下,我们观察到了ZnO纳米棒在380nm的近紫外电致发光.通过研究纳米棒的生长时间、晶种退火温度以及有机层厚度对器件发光性能的影响,总
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