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本文介绍了一种与传统Cr掩摸制作工艺相兼容的单层衰减相移掩摸的结构、原理和制作方法,提供了部分实验结果.
一种简单的衰减相移掩摸
【摘 要】
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本文介绍了一种与传统Cr掩摸制作工艺相兼容的单层衰减相移掩摸的结构、原理和制作方法,提供了部分实验结果.
【机 构】
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四川大学物理系(成都)中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室成都双流
【出 处】
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中国光学学会全息与光信息处理专业委员会2000年学术年会
【发表日期】
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2000年7期
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