【摘 要】
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本实验研究为利用低温常压等离子体镀膜系统于高分子材料表面上进行类二氧化硅之硬质薄膜沉积,将含有硅元素之反应前驱物通入镀膜系统,经由等离子体搭配反应前驱物在高分子材
【机 构】
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台湾元智大学 化学工程与材料科学学系
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本实验研究为利用低温常压等离子体镀膜系统于高分子材料表面上进行类二氧化硅之硬质薄膜沉积,将含有硅元素之反应前驱物通入镀膜系统,经由等离子体搭配反应前驱物在高分子材料表面进行薄膜沉积,藉由此实验制程来改善高分子材料表面特性,并利用FTIR、UV-VIS、铅笔硬度测试法等进行薄膜特性分析。实验结果发现,在利用低温常压等离子体沉积类二氧化硅薄膜后,经由FTIR 进行沉积之薄膜表面分析,可以很明显观察到其高分子材料表面性质从有机态转变至无机态,并利用UV-VIS 进行可见光穿透率之量测,可得其高分子材料在可见光波长(300 nm～800 nm)范围内,其透光度明显改善,最后利用铅笔硬度测试法进行薄膜硬度测试,可发现高分子材料表面经由此实验制程后,其表面硬度可明显改善,从实验结果可发现经由此实验制程可有效改善高分子材料表面特性,并可大幅增加高分子材料其应用价值。
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