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基于同步辐射X射线制备高深宽比纳米光栅的工艺改良
基于同步辐射X射线制备高深宽比纳米光栅的工艺改良
来源 :2021光电子材料与器件发展论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jerryfong
【摘 要】
:
为了在具有微纳级尺寸狭缝宽度的高深宽比结构中增加深宽比,在制备狭缝宽度分别为250nm 及150nm 的预实验基础上,测试并改进了光刻工艺的实验参数,并对制备结果进行观察与分析,得出最佳的实验条件。
【作 者】
:
李以贵
【机 构】
:
日本东北大学
【出 处】
:
2021光电子材料与器件发展论坛
【发表日期】
:
2021年10期
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为了在具有微纳级尺寸狭缝宽度的高深宽比结构中增加深宽比,在制备狭缝宽度分别为250nm 及150nm 的预实验基础上,测试并改进了光刻工艺的实验参数,并对制备结果进行观察与分析,得出最佳的实验条件。
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