新一代硅——SOI技术的新进展

来源 :第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luoxuefubai
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SOI(silicon-on-insulator)被国际上公认为是“二十一世纪的硅集成电路技术”,本文综述了SOI技术新进展.SIMOX和Smart-cut SOI技术已走向商业化.在高温与辐射环境下工作的SOI电路已走向市场.近年来,移动电子系统的迅速发展以SOI材料在低压、低功耗、高速电路方面所具有的优势,已使SOI材料成为制备低压低功耗电路的首选材料.
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