【摘 要】
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采用Zn靶和ZnO(掺2wt.％ Al2O3)陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜，即ZnO∶Al透明导电薄膜，研究Zn靶溅射功率(0～90W)和衬底温度(室温、100℃和200℃)对薄膜结构、形
【机 构】
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中南大学冶金科学与工程学院,长沙,410083
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采用Zn靶和ZnO(掺2wt.％ Al2O3)陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜，即ZnO∶Al透明导电薄膜，研究Zn靶溅射功率(0～90W)和衬底温度(室温、100℃和200℃)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响.结果表明：按双靶共溅射工艺制备的ZnO∶Al薄膜的晶体结构均为六角纤锌矿结构，并且随着Zn靶溅射功率的增加，薄膜的结晶质量呈现出先改善后恶化的规律，薄膜中的载流子浓度逐渐升高，电阻率逐渐降低，而薄膜的光学性能受其影响不大；随着衬底温度的升高，薄膜的结晶性能得到改善，薄膜的可见光透过率增强，电阻率降低.
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