电解液组成对微氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下,对ZAlSi12Cu2Mg1合金微氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变Na2SiO3的含量,研究了其对微氧化的临界起电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明：Na2SiO3含量从6g/L到12g/L变化时,膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm；稳定氧化时间由27min缩短为18min；膜层生长速率约从5.70μm/min提高到9.67μm/min；但Na2SiO3含量超过12g/L时,膜层厚度却不再增加了；当Na2SiO3含量为14g/L时,膜层厚度为166μm；当Na2SiO3含量为8g/L时,临界起正向电压达385V,负向电压达最低值为27V.XRD分析表明：陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相,陶瓷膜层的莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。