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离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜
离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜
来源 :中国光学学会光学制造技术专业委员会首届学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:maenzehai
【摘 要】
:
简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程,给出了用该方法制作8~12μm波段的减反膜的测试曲线,它具有峰值透过率高,在
【作 者】
:
黄伟
张云洞
【机 构】
:
科学院光电技术研究所(成都)
【出 处】
:
中国光学学会光学制造技术专业委员会首届学术会议
【发表日期】
:
1998年5期
【关键词】
:
离子束辅助淀积
增透膜
镀膜技术
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简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程,给出了用该方法制作8~12μm波段的减反膜的测试曲线,它具有峰值透过率高,在设计波长范围内的平均透过率大于97℅以上,膜层附着好,可以切割和擦洗,可以在室温和100K低温下反复循环使用。
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