CHA型分子筛膜修饰及CO2/CH4分离性能

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cykic
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  CHA型分子筛孔径大小为0.38 nm,介于CO2(~0.33 nm)和 CH4(~0.38 nm)动力学直径之间,且对CO2/CH4具有吸附选择性,CHA 型分子筛是制备高CO2/CH4分离性能的理想材料.然而,在膜的水热合成过程中,晶间缺陷的生成是不可避免的.晶间缺陷的存在导致渗透物分子从非分子筛孔道透过膜,大大降低了膜的分离选择性能.笔者将 N-烯丙基咪唑嫁接到 CHA 型分子筛膜表面来修补膜的晶间缺陷以提高膜的CO2/CH4分离选择性.优化了前驱体类型、交联耦合反应温度和时间等条件对缺陷修补的影响,并采用了 X-射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱(FT-IR)和热重量分析(TGA)等表征手段对粉末和膜结构进行表征.修后的膜在分离等摩尔比 CO2/CH4混合气体时,CO2的通量相对于原始值2.46*10-7mol/(m2s Pa)只降低了15%,而分离选择性由9提高到99.
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