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等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中等离子体条件的原位诊断
等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中等离子体条件的原位诊断
来源 :第九届全国等离子体科学技术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuswe
【摘 要】
:
该文报道了利用光发射谱OES和Langmuir探针对热阴极直流放电等离子体化学气相沉积(PCVD)金刚石薄膜的等离子体条件进行原位研究的部分结果,研究了几种过程参数变化中等离子体状
【作 者】
:
朱晓东
周海洋
温晓辉
詹如娟
【机 构】
:
中国科学技术大学近代物理系
【出 处】
:
第九届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
:
1999年8期
【关键词】
:
等离子体
化学气相沉积
金刚石膜
等离子条件
原位诊断
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该文报道了利用光发射谱OES和Langmuir探针对热阴极直流放电等离子体化学气相沉积(PCVD)金刚石薄膜的等离子体条件进行原位研究的部分结果,研究了几种过程参数变化中等离子体状态,并与金刚石的沉积相联系。
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