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微波ECR等离子体增强磁控溅射多昌硅薄膜研究
【机 构】
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深圳大学-中科院等离子体物理研究所联合应用等离子体实验室,深圳,518060
【出 处】
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第十五届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
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2011年期
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