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本文研究了火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在 KrF 紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过 10 分钟的照射后，在 1550nm 处的折射率变化大约为 3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌，随着曝光时间的增长，膜的致密性增加，表面粗糙度下降，折射率增大。
火焰水解法制备掺锗二氧化硅膜的光致折变研究
【摘 要】
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本文研究了火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在 KrF 紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过 10 分钟的照射后，在 1550nm 处的折射率变化大约为 3.41×10-3。采用原子力
【机 构】
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吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室,长春,1300232
【出 处】
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第五届全国光子学大会
【发表日期】
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2004年期
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