【摘 要】
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本文采用射频磁控溅射方法在单晶YSZ上沉积高温超导涂层导体CeO2缓冲层,通过原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行表征,发现其随沉积参数(溅射气压,射频功率)出现明显的演化规律,缓冲层表面可呈现平整结构、纳米颗粒结构或相互垂直的拉长岛状结构.X射线衍射(XRD)测量揭示了薄膜应变状态与表面形貌的演化存在很强的相关性.
【机 构】
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清华大学物理系 应用超导研究中心,北京100084
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本文采用射频磁控溅射方法在单晶YSZ上沉积高温超导涂层导体CeO2缓冲层,通过原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行表征,发现其随沉积参数(溅射气压,射频功率)出现明显的演化规律,缓冲层表面可呈现平整结构、纳米颗粒结构或相互垂直的拉长岛状结构.X射线衍射(XRD)测量揭示了薄膜应变状态与表面形貌的演化存在很强的相关性.
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中晟光电(TOPEC)设计并制造了一种新型的国产MOCVD系统,将其命名为ProMaxyTM.该系统由四个反应腔组成,拥有目前市场上最大的外延片输出量(264x2"),旨在为高亮度GaN LED的大规模生产提供稳定而可靠的外延生长.区别于业界"广泛应用"的垂直式反应腔,ProMaxyTM拥有更为宽广的工艺窗口,在ProMaxyTM上进行高压生长后的外延膜表现出优异的均匀性、表面形貌、晶体质量和电性
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