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将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.
复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究
【摘 要】
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将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为
【机 构】
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深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东,深圳,518029
【出 处】
：
2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议
【发表日期】
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2006年期
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