磁控溅射法制备AL掺杂ZnO(ZAO)透明导电薄膜的研究

来源 :中国化学会2013年中西部地区无机化学化工学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yue_pan

【摘要】

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本文采用了磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过改变氧气和氩气的比例得到了性能不同的薄膜,用X射线衍射仪,紫外可见分光光度计,四探针电阻仪对ZnO∶Al透

【作者】

：

朱辰杰许亮王瑛洪瑞金温和瑞

【机构】

：

江西理工大学冶金与化学工程学院,赣州34100

【出处】

：

中国化学会2013年中西部地区无机化学化工学术研讨会

【发表日期】

：

2013年4期

【关键词】

：

半导体材料掺铝氧化锌透明导电薄膜磁控溅射法光电性能

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本文采用了磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过改变氧气和氩气的比例得到了性能不同的薄膜,用X射线衍射仪,紫外可见分光光度计,四探针电阻仪对ZnO∶Al透明导电薄膜进行表征.结果发现:在衬底温度为400℃,沉积时间为30min,氧气和氩气的比为5∶100的条件下,薄膜的透过率大于80％,方块电阻有最低值为80Ω/口.

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