【摘 要】
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<正>化学湿法刻蚀技术是制作线条较宽,宽深比大,特别是大口径衍射光学元件方面具有较大的优势。针对用于核爆模拟的大口径衍射光学元件的湿法刻蚀工艺,研究了湿法刻蚀石英玻
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<正>化学湿法刻蚀技术是制作线条较宽,宽深比大,特别是大口径衍射光学元件方面具有较大的优势。针对用于核爆模拟的大口径衍射光学元件的湿法刻蚀工艺,研究了湿法刻蚀石英玻璃的化学机理,摸索了相关的实验规律,得到了有效控制刻蚀速率的实验参数, 不同腐蚀条件下所对应的侧向刻蚀参数,确定了熔石英材料的刻蚀速率模型。为基于工艺条件的优化设计方法提供实验依据,得到了制作工艺中的加工容差依据。
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