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以多晶硅代替单晶硅可以减少生产太阳电池的成本.但晶硅表面晶体方向的无序性,使我们用常规的NaOH制备的表面织构的光吸收效果达不到所需要的要求.APCVD化学沉积镀TiO<,2>膜是在多晶硅片上镀一层减反射膜来增强其光吸收.改善多晶硅太阳电池片电池特性,提高多晶硅片的转换效率.
APCVD化学气相沉积镀膜技术在太阳电池生产中的应用
【摘 要】
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以多晶硅代替单晶硅可以减少生产太阳电池的成本.但晶硅表面晶体方向的无序性,使我们用常规的NaOH制备的表面织构的光吸收效果达不到所需要的要求.APCVD化学沉积镀TiO膜是在
【机 构】
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云南半导器件厂(昆明)
【出 处】
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中国第六届光伏会议
【发表日期】
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2000年期
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