薄膜表面粗糙度一直是众多学者关注的问题，光学薄膜的表面粗糙是影响薄膜质量的重要因素之一，其产生的散射损耗对薄膜的质量具有举足轻重的作用。特别是对于高功率激光系统和激光陀螺系统中应用的光学薄膜。 本文采用电子束蒸发工艺，利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪，研究了不同基底粗糙度、不同二氧化锆薄膜厚度以及不同的离子束辅助能量下所沉积的二氧化锆薄膜的表面粗糙度。结果表明，随着基底表面粗糙度的增加，二氧化锆薄膜表面粗糙度呈现出先缓慢增加，当基底的粗糙度大于10nm后快速增加的趋势；随着二氧化锆薄膜厚度的增加，其表面均方根粗糙度(RMS)先减小后增大。随着辅助沉积的离子能量的增加，其表面粗糙度也呈现出先减小后增加的趋势。这些研究对于高质量光学薄膜的工艺研究具有非常重要的指导意义。