自抗扰控制器在过程控制中的应用仿真研究

来源 :现场总线与智能仪表专题研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:goodgay3_2004
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对于连续搅拌槽反应器(CSTR)、pH中和、高纯度分离等化工过程的控制,由于其过程本身的严重非线性而变得十分困难.自抗扰控制器(ADRC)在较广泛的一大类未知强非线性系统和系统中存在强干扰的情况下能表现出很强的适应性和鲁棒性.本文采用二阶ADRC来控制诸如上述的复杂非线性过程.并结合工程实际和理论分析,对其跟踪微分器TD的设计予以简化.对CSTR和pH中和过程的仿真结果表明,基于ADRC的控制在定值和随动系统情况下均得到远优于常规PID调节器的控制效果,显示出ADRC在化工过程控制中良好的应用前景.
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