【摘 要】
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报告了4H-SiCMESFET单栅器件的研制.通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制造出单栅宽150um,栅长0.8umn沟道4H-SiCMESFET,其主要直流特性结果为:在
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报告了4H-SiCMESFET单栅器件的研制.通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制造出单栅宽150um,栅长0.8umn沟道4H-SiCMESFET,其主要直流特性结果为:在Vds=30V,vg=0v时,饱和漏电流密度Idss为295m/m,最大跨导Gm为26.5mS/m;微波特性测试结果:在f.=3GHz、Vds=32V时最大输出功率密度1.29W/mm,增益为7.89dB,功率附加效率为24﹪.
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