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<正>近年来铁氧体薄膜以其优异的电磁特性、良好的机械性能和稳定的化学性能引起了广泛的关注。择优取向是控制薄膜性能优劣的关键因素,但高取向性薄膜的制备条件较为苛刻,通常需要高真空或结构导向剂。本文提出了一种新的制备取向性铁氧体薄膜的方法,其方法简单,无需结构导向剂,可以在多种类型的基片上成膜。