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会议论文
厚膜银导体银离子迁移的试验设计
厚膜银导体银离子迁移的试验设计
来源 :第十六届全国混合集成电路学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bj20089
【摘 要】
:
本文主要介绍了厚膜银导体上银离子迁移的试验方法、考核条件,通过试验发现,在660V/mm直流电场强度下,通过更换基片材料和介质材料,可有效抑制银离子的迁移,提高电路的可靠性
【作 者】
:
董永平
【机 构】
:
华东微电子技术研究所,合肥 230022
【出 处】
:
第十六届全国混合集成电路学术会议
【发表日期】
:
2009年期
【关键词】
:
厚膜
银导体
银离子迁移
表面界面
介质材料
性能关系
试验方法
界面现象
基片材料
混合电路
电场强度
可靠性
直流
考核
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本文主要介绍了厚膜银导体上银离子迁移的试验方法、考核条件,通过试验发现,在660V/mm直流电场强度下,通过更换基片材料和介质材料,可有效抑制银离子的迁移,提高电路的可靠性,同时发现,在实际厚膜混合电路中,银离子迁移更多的是一种表面界面现象,与材料的表面界面性能关系密切。
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