【摘 要】
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大面积CIGS电池组件中子电池互连件图型、激光刻划参数等对组件性能影响显著.本文采用三步蒸发工艺在覆有钼膜的玻璃衬底上制备出电池吸收层铜铟镓硒材料,并完成其它电池层材料的制备.在电池制备过程中,采用激光刻蚀技术进行组件中子电池互连制备,研究了激光功率、重叠率、刻蚀线宽等参数对材料互连质量的影响.所制备的1Ocm×1Ocm玻璃衬底上电池组件效率开路电压达到2.4V,子电池互连引起的面积损失约9.8％
【机 构】
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上海空间电源研究所,上海200241 上海空间电源研究所,上海200241;连云港神舟新能源有限公
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大面积CIGS电池组件中子电池互连件图型、激光刻划参数等对组件性能影响显著.本文采用三步蒸发工艺在覆有钼膜的玻璃衬底上制备出电池吸收层铜铟镓硒材料,并完成其它电池层材料的制备.在电池制备过程中,采用激光刻蚀技术进行组件中子电池互连制备,研究了激光功率、重叠率、刻蚀线宽等参数对材料互连质量的影响.所制备的1Ocm×1Ocm玻璃衬底上电池组件效率开路电压达到2.4V,子电池互连引起的面积损失约9.8％.
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绒面背反射电极的陷光作用对提高NIP型硅基薄膜太阳电池的光电转换效率至关重要.本文研究了一种新型的绒面复合背反射电极,首先采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在玻璃衬底上沉积一层“类金字塔”形貌的绒面Zn0薄膜,然后通过热蒸发技术在其表面覆盖不同厚度的Ag,最后溅射厚度约100nm的ZnO:Al介质薄膜.通过改变实验条件,得到不同表面粗糙度(RMS)(约30nm～150nm)的复合背反
在本文中,绒面玻璃被引入作为硅薄膜电池的主要陷光手段.玻璃的绒面结构通过化学腐蚀的方法来实现,绒面结构呈微米级圆坑形状,雾度为60～70％.表面结构为纳米级尺寸的掺硼氧化锌(BZO)氧化物导电薄膜,通过低压化学气相沉积(LPCVD)方式镀在绒面玻璃表面,形成了微米-纳米级的多重陷光结构.这种多重表面陷光结构有效地提高非晶纳米叠层电池中纳米底电池对近红外光的吸收,使整体电流增大,从而提高纳米硅薄膜电
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