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铁磁/铁电复合结构的界面耦合效应是人们研究的热点之一[1]。在尖晶石铁氧体/钙钛矿多铁材料构成的全氧化物异质结构中,氧离子(空位)如何影响界面耦合效应?针对这个问题,我们设计了如下实验:(1)利用磁控溅射方法在SrTiO3(100)基片上外延生长BiFeO3(BFO)薄膜;(2)利用反应磁控溅射方法,在BFO薄膜上外延生长尖晶石铁氧体Fe3-xVxO4(FVO)薄膜。