光学薄膜元件是激光系统中极其重要的组成部分，对于大功率高能量激光系统来说，激光薄膜的性能一直是限制其向更高能量或更高功率发展的瓶颈之一。同时，薄膜元件也是红外窗口及导弹导引头等的重要组成部分，激光武器对薄膜元件的破坏可能造成光学系统的功能失效。因此，研究薄膜抗激光损伤特性，不断提高其损伤阈值，对改进激光系统，扩展其在科研及生产中的应用，具有重要的实际价值，同时也成为发展激光防卫武器的基础。　　为了满足光学薄膜在强激光系统环境下的使用的要求，本文依据膜层高损伤阈值的技术要求，选用具有较高化学稳定性和抗激光损伤阈值的HfO2和SiO2作为高低折射率搭配的膜材，并借用Tfc软件膜系设计设计了1064nm反射膜，从制备技术、基底的清洗方式、SiO2半波长层和离子辅助沉积等工艺因素条件对薄膜损伤特性的影响进行了实验研究。在制备过程中采用电子束蒸发的方法、晶控法监控膜厚，镀膜后对所制备的薄膜进行退火，最后在熔融石英基底上成功镀制了能够承受强激光光源的照射和恶劣环境的测试的高反射膜。