刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究

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刻蚀工艺要求具有良好的工艺精确性和重复性,但是当在同一个刻蚀腔内连续混合刻蚀差异较大的不同工艺时,一些关键工艺的规格往往会发生很大的偏移。本文通过硬掩模工艺的实验得知刻蚀腔环境的变化是导致刻蚀工艺偏移的一个重要原因。在刻蚀过程中,一层聚合物会淀积在刻蚀腔壁上,但是当混合刻蚀差异较大的不同制程工艺时,刻蚀腔上的聚合物会逐渐发生改变。由于聚合物量的多少会影响等离子中CF2基团的浓度,从而使硬掩模侧壁上用于抑制横向刻蚀的聚合物发生了变化,所以最终导致了刻蚀特性的变化和工艺偏移。本文通过实验研究了混合刻蚀两种不同制程工艺的过程中,刻蚀腔内部环境变化的机制,以及它们之间是如何相互造成影响,最后介绍了如何利用混合蚀刻来解决实际生产过程中栅极蚀刻关键尺寸的控制问题。
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