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金刚石是一种集优异的力学、热学、光学、声学和电子学等性质于一体的特种功能材料.经过多年的努力,CVD金刚石薄膜的研究取得了可喜的成果,已经作为刀具涂层、热沉 材料、电子器件材料等在各个领域得到广泛的应用.但是,对于低金刚石的异质成核和生长的机制问题仍然处于争论之中.应用技术的发展迫切要求进一步了解CVD金刚石生长的一些 基本问题.该文主要利用原位光发射谱技术对热丝CVD金刚石生长过程中的化学气相基团进 行了系统的研究,了氮气氛下的金刚石生长机制并研究了系列金刚石样品的场致发射特性.