本文采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备两种不同铬含量的类石墨碳(GLC)膜,并于真空条件下对其进行不同温度的退火处理。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏显微硬度计、划痕仪、销-盘摩擦磨损试验机等测试手段分析了掺铬类石墨碳膜在退火前后微观结构和性能的变化规律,并初步探讨了温度与Cr含量对掺铬碳膜力学和摩擦学性能的影响机理。研究结果表明：真空退火温度对镀层工作层碳元素的键结构有明显的影响。随着退火温度的升高,镀层中的Sp2C的含量逐渐增加,使碳元素逐渐由非晶碳向石墨碳转化；真空退火温度对镀层中结晶相的晶体结构影响较大。退火温度较低时,镀层的组织结构基本上为非晶态,当退火温度达到500℃时,镀层中有Cr3C2的结晶相析出,在600℃退火后,Cr3C2的衍射峰有所增强,同时镀层中又出现了Cr23C6的结晶相,退火温度升至800℃时,镀层中的结晶相以Cr3C2、Cr23C6和少量的CrSi2为主。镀层的硬度随着退火温度的升高呈现出先增加后减小的变化规律,退火温度为500℃时,镀层显微硬度最大,Cr靶电流为OA的镀层硬度的变化趋势同Cr靶电流为0.1A的镀层基本一致；随着退火温度的升高,不同Cr含量的两种镀层膜基结合强度均逐渐降低,但Cr靶电流为0.1A的镀层膜基结合强度比Cr靶电流为OA的镀层下降趋势缓慢,下降程度要小；镀层的比磨损率随退火温度升高而逐渐增大,镀层摩擦系数呈先减小后增大的变化趋势,较Cr靶电流为OA的镀层,Cr靶电流为O.1A的镀层的摩擦系数变化幅度较小而稳定。