SiC光学材料超精密研抛关键技术研究

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空间光学系统的快速发展,对光学零件的轻量化提出了严格要求。与传统光学材料相比,SiC的比刚度最大,在尺寸相同的条件下,其轻量化程度最高;此外,它还具有热变形系数小、光学性能好、各向同性、无毒、能够实现复杂形状的近净尺寸成型等优点,因而成为空间反射镜的首选材料。 作为一种多相陶瓷,SiC的材质既硬且脆,加工难度很大;从已见报道的SiC反射镜来看,其面形精度尚不能满足高精度光学系统的成像要求,这使得它在应用中受到限制;因此,探索SiC材料的加工工艺性是目前亟待解决的关键问题之一。本文以JM030.2型平面研抛机和自研的光学非球面复合加工机床为对象,对研抛过程中SiC材料的去除特点及影响因素进行研究,在此基础上建立确定量研抛的数学模型。主要内容和创新点包括: 1、根据平面研抛的成形原理和材料去除特点,建立了工件表面相对运动轨迹的数学模型,给出了不同偏心条件下加工区域的平均压强分布形式;在SiC工件的平面研抛实验中,通过选择合适的加工条件和对工艺参数进行调整,能够实现表面材料的均匀去除,获得理想的工件面形,同时也为非球面确定量研抛提供工艺指导。 2、针对计算机控制光学表面成形(CCOS)的加工方式、误差收敛特点,研制了去除函数呈高斯分布的双转子结构研抛模;采用脉冲迭代法、平滑因子傅立叶变换法推导出驻留时间的算法,求解过程中根据工件面形的特点作了各种形式的简化;提出了工件表面和研抛模的吻合误差与局部压强、材料去除率、收敛比之间内在关系的数学模型,并推导出相应的计算公式;分析了边缘效应产生的原因,在加工过程中采用相对压力因子对去除函数进行修正,可以消除边缘效应的影响。 3、研制了集铣磨成型、研磨、抛光于一体的光学非球面复合加工机床(AOCMT),分析了各种运动误差对铣磨精度的影响;根据空间齐次坐标的变换模型,推导出多轴数控加工的后置处理算法;通过五轴数控联动,AOCMT机床能够以法向方式加工出任意复杂的光学表面,铣磨精度稳定在8μm之内。 4、提出了根据不同成分面形误差的分布特征、进给步距、收敛比和吻合特性要求,确定研抛盘尺寸的新方法;对CCOS加工中研抛模运动路径的规划进行了深入研究,并给出了相应的工艺流程和技术规范。 5、磁流变抛光(MRF)是超光滑光学表面的一种新型加工技术,本文从MRF的磁、力学性质出发,研究了磁流液的稳定性、流变效应、链化结构和连续介质模型;根据抛光区内剪应力、正压力的分布特征,提出了MRF的定量加工模型;然后以平面工件的磁流变抛光为例,揭示了工艺参数对材料去除率和表面粗糙度的影响规律。
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