在显示技术的发展长河中,追求高的发光效率始终是科学家不断努力的方向。从CRT时代的体积大,电压高,效率低等,到现在的平板显示时代,体积小,能耗低,期间实现了巨大的跨越。对于发光器件,提高发光效率人们首先想到的是改进材料。然而,在改进材料及更新发光原理的同时,有另外一种独特的方法正在悄悄的提高着器件的出光效率。这正是本文研究的内容。这种方法通过改变器件的结构,降低光在器件内部全反射的损失,从而提高器件的外量子效率。本论文的工作主要包括器件模拟和实验两部分。器件模拟部分主要讨论了模拟光通过刻面玻璃后,光的透过率情况。使用的方法有两个:1.蒙特卡罗模拟方法。研究了蒙特卡罗方法的重要特征――随机数的产生和检验,编写了一个均匀随机数和随机向量发生器程序,并对随机数发生器进行了简单检验。2.光学追迹方法。遵守几何光学原理,追踪光子在刻面玻璃内的运行情况,一直到光子透出器件或是被吸收。实验部分研究了基于半导体工艺的玻璃湿法刻蚀技术。包括玻璃面板上的光刻和刻蚀。得到了适用于玻璃的一些湿法刻蚀的数据。并选择配方制作了OLED器件对试验结果进行验证。本文共分为五章。第一章介绍了本文的研究背景,研究意义和主要工作。第二章介绍了蒙特卡罗模拟方法,它的产生,发展和相关的问题。第三章是器件的模拟,详细讨论了光学追迹过程中的相关情况,讨论了蒙特卡罗方法模拟光子的程序设计。第四章介绍了器件的制作和测试。第五章对全文进行总结。