钛及钛合金力学强度较高而且耐腐蚀性能优异,弹性模量和密度也较低,具有出色的生物相容性,而被广泛应用于生物医学领域。本文在研究了大量的钛合金抛光技术的基础上,以获得较高的材料去除率（MRR）与较低的表面粗糙度并存的抛光工艺参数为目的,通过电脑仿真与实验相结合对磁场辅助下的钛合金摩擦电化学抛光进行了研究。首先对摩擦电化学作用下抛光液的流场进行了建模仿真。通过仿真分析得出了摆动周期、转动速度和摆动起始角度对抛光液流场的影响规律。并分析了流场速度和流场压力的分布特点。结果表明:摆动周期的增加会小幅降低流体内的速度,但对于流体速度的稳定性没有明显的影响,同时对于越靠近层流出口的位置,其压力的稳定性越差;转动速度的增加,对于越靠近层流出口的位置,流体内速度的增加越明显,对于越靠近底部中心的位置,速度越来越趋于稳定;随着摆动起始角度的增加,越靠近底部中心的位置,其速度的稳定性越差,越靠近层流出口的位置,其流体整体的速度增加效果越明显,而在靠近层流出口的位置,其压力的稳定性变差。然后对磁场辅助下的磁场及摩擦电化学下的电场进行了建模仿真。对与磁场,在永磁体尺寸相同时,方形永磁体可以为半球面提供更强的磁场,但是受限于方形永磁体的形状,柱形永磁体可以更加紧密的排列,从而提供更强的磁场,并且数量越多,排列越密,半球面磁场的强度和均匀性也就越好;永磁体的磁极也是在N极和S极交替排列组合时能达到更高的磁场强度和磁场均匀性;剩余磁通密度的增大和距离永磁体距离的减小都会有效的提高半球面的磁场强度,但同时其磁场均匀性会相应变差。对于电场来说,恒压源相较于恒流源能有更好的电流密度均匀性;电源负极的位置越接近于抛光盘的中心电流密度的均匀性也会越好;对于越高浓度的抛光液,抛光液内的电流密度和整个面的平均电流密度也会越高。最后在各种条件下进行了钛合金的抛光实验,得出下列结论:阴阳极间的距离越近其材料去除率越高,但是距离太近时会由于抛光液的蒸发降低表面材料去除率。不同KCl浓度抛光液会影响到材料去除率,在加入2.5g KCl后,其材料去除率提升了19.53%%。电压从0V到5V以后,材料去除率提升了大约32.45%。最后在优选的条件下进行抛光实验,最终得到钛合金试件的表面粗糙度是94.6nm,其表面的材料去除率为0.0107g/h。